高い純度のガラス コーティングのためのチタニウムの放出させるターゲットCNCの旋盤の表面

高い純度チタニウム ターゲット チタニウムの放出させるターゲット

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チタニウムの放出させるターゲットは集積回路、情報蓄積、液晶表示装置、レーザーの記憶および電子制御装置のような電子および情報産業で主に使用される。それらはまたガラス コーティングの分野で使用することができる。それはまた耐久力のある材料、高温防蝕、優れた装飾的なプロダクトおよび他の企業で使用することができる。

高純度の、高密度チタニウムの放出させるターゲット:

チタニウムの放出させるターゲット（純度:99.9% -99.999%）

マグネトロンの放出させるコーティングは物理的な沈殿方法の新型である。蒸気沈殿コーティング方法上の多くの明らかな利点がある。開発される比較的成長した技術として放出させるマグネトロンは多くの分野で加えられた。チタニウムの放出させるターゲット
放出させる技術のチタニウムの放出させるターゲット

放出させることは薄膜材料を製造するための一流の技術の1つである。イオン源によって発生するイオンが真空で加速し、集まるのに固体表面に影響を与え、イオンと固体表面原子間の運動エネルギーを交換する速いエネルギー イオン ビームを形作るために使用されている。固体許可の表面の原子基質の表面の固体そして沈殿物。影響を与えられた固体は放出させるターゲットと呼ばれる放出させる方法によって沈殿する薄膜を準備するための原料である。さまざまなタイプの放出させた薄膜材料は半導体の集積回路、photovoltaics、記録媒体、フラット パネル ディスプレイおよび工作物の表面のコーティングで広く利用されている。

さまざまなコーティング ターゲットの処理:

金属ターゲット:タングステン ターゲット、モリブデン ターゲット、タンタル ターゲット、ニオブ ターゲット、ジルコニウム ターゲット、コバルト ターゲット、バナジウム ターゲット、銅ターゲット、プラチナ ターゲット、ハフニウム ターゲット、ニオブ ターゲット、アルミニウム ターゲット、鉄ターゲット、クロム ターゲット、チタニウム ニオブの合金ターゲット、titanium-zirconium合金ターゲット、チタニウム タングステンの合金ターゲット、チタニウムGUI合金ターゲット、チタニウム アルミニウム ターゲット、ニッケル クロムの合金ターゲット、アルミニウム クロムの合金ターゲット、高純度のチタニウム ターゲット、超高純度のチタニウム ターゲット、高純度のニッケル ターゲット、高純度のタンタル ターゲット、polysiliconの目標資料、超高度純度のアルミニウム ターゲット、（99.95%-99.999%）、

分類:複数のアーク イオン コーティング ターゲット、チタニウムの平らなターゲット、チタニウムの回転式管ターゲット、チタニウム ターゲット後ろ板、チタニウム ターゲット背部管

使用:用具のコーティング、装飾的なコーティング、電子産業、フラット パネル ディスプレイの企業、大きい区域の低Eガラス コーティング、半導体、LCD、solar energy企業、光学レンズ、光電子工学の企業、陶磁器の結合ターゲット、噴霧ターゲット、等。